1．國內外現狀、水平和發展趨勢
超聲清洗技術的機理研究及設備開發與超聲清洗工藝研究及應用在我國已有近50年的歷史,幾乎與國外同步進行的。80年代前我國超聲清洗研制單位無論從研制隊伍和生產有一定規模的單位為數不多,80年代后特別90年代開始隨著改革開放的深入和國民經濟的飛速發展以及科技的不斷進步，尤其先進制造技術的需求，超聲清洗技術的研究與超聲清洗設備的研制得到了迅速發展，研制隊伍不斷壯大，研制單位不斷增多。然而目前市場較為傳統的超聲波清洗在對半導體器件、硅晶圓等精密元件的清洗中，由于頻率多在20kHz-100kHz之間，此頻率范圍內的超聲空化效應較大，對精密元器件表面一些微結構會造成一定程度的損壞，同時也難清除1微米以下的雜質顆粒，無法滿足需求。
太平淡了，要寫出目前不解決清洗的問題，晶圓就不能發展，我們國家集成電路就不能發展，只能通過超聲波清洗來解決這一問題。
2．項目開發的目的、意義
鑒于以上缺點，昆山超聲特設計一款頻率高達1.7MHz的
超聲波清洗機。
（1）超精密清洗：換能器發出波長為兆赫級的高能聲波，溶液分子在聲波的推動下作加速運動，以較強的聲壓梯度、聲流作用產生的高速流體力學層連續沖擊精密元件表面，大大降低元件表面與液體之間的邊界層厚度，使雜質粒子受到溶液兆赫頻的震蕩作用從器件表面脫落，能夠清洗掉元器件表面微米、亞微米級的雜質顆粒，
兆聲波清洗機能實現超精密清洗過程。
（2）不傷清洗件：兆赫級聲波極低的空化效應，不同于產生駐波的超聲波清洗，而是利用高頻聲波能量使溶液以加速的流體形式，連續沖擊清洗對象，此機理方式不會損傷清洗對象，能夠有效解決精密元件清洗后造成的損傷、腐蝕等現象。
3．本項目達到的技術水平及市場前景
采用側槽式兆聲清洗，換能器采用高頻超聲波換能器，置于水槽四側，清洗時硅晶圓等精密元件放置在水槽中，方便用戶使用。系統具有過溫、過流、防反接保護等，保護性強，靈敏度高。控制電路由工業串口觸摸屏與控制電路板通訊，控制后端電路。
本兆聲波清洗機使用便捷，實現硅晶圓等精密元件的高效無傷清洗，具有非常廣泛的市場前景。
